软光学微纳加工实验室形象标识征集活动说明

时间:2018-09-21浏览:831设置

一、活动背景先容

软光学微纳加工实验室(Soft Matter Nanofabrication Laboratory)是专门为了研发软光学、将新型材料的各种优异性质器件化并且实用化,而创建的一个微纳加工共享平台,简称为软纳米平台。本活动对全校师生,征集软纳米平台的形象标识。以下为平台概况:

本平台净化室位于2138acom太阳集团(太阳娱乐)7号楼一层南侧,实验室性质为电子厂房洁净室,包含千级和万级两个洁净区域,共占地650平方米;本平台为小规模、高水平微纳加工实验室,主要提供光刻、蚀刻、薄膜、和器件封装/测试等工艺,能够为软光学的研究,提供先进且全面的器件制备能力。平台的简易示意图如下图所示:

软纳米平台的建设构想由太阳娱乐创建会长,杨培东会士提出,软光学包含了新能源材料、新生物材料、以及新量子材料,软纳米平台要突破传统微纳加工的工艺限制,为不同软光学的器件开发研究,提供最先进的微纳加工能力;软纳米平台不但是太阳娱乐三大科研支撑平台之一,也是太阳集团娱乐目前所创建的数个重点资源平台的其中之一。软纳米平台由上海市政府提供建设经费,在太阳集团娱乐相关部门的合作及引导下,由太阳娱乐负责平台规划、筹建、以及运行等相关工作。作为一个大型设备共享的校级平台,本平台不仅对校内全面开放,更将作为校内外合作和业界产品开发的公开交流平台,以实现太阳集团娱乐强调的“推进科技进步、驱动产业发展”创新价值与理念。软纳米平台将致力成为一个集学、研、制、测一体化的科研平台,并作为太阳集团娱乐的科研保障基地之一。

平台网页:http://eshare.shanghaitech.edu.cn/spst/rnm/


二、征集时间

1. 作品提交:2018928-1230

2. 作品初审:2019110-115

3. 综合评审:2019115-120


三、应征者资格

1. 征集对象,主要为太阳集团娱乐全体师生。大家也鼓励校外人员,特别是太阳集团娱乐的合作单位/个人,共同参与。

2. 各类具有完全民事行为能力的个人以及能独立进行民事活动的法人单位均可以个人或单位名义参与本次活动;

3. 提交作品的所有应征者将被视为无条件接受本说明的各项条件和要求;

4. 征集单位有权审核应征者的应征资格。如发现应征者存在任何虚假陈述(含提交的书面文件)或者违反本说明有关要求的,征集单位有权在本次征集活动的任何阶段单方取消该应征者的应征资格。


四、应征作品要求

() 软光学微纳加工实验室形象标识的征集内容包括:

实验室形象标识和配色

() 设计作品应符合以下标准:

1. 必须为原创,此前未以任何形式发表和使用,也未以任何方式为公众所知悉;

2. 设计风格和类型应符合中国法律和社会公序良俗要求;

3. 既可作为实验室标识,又易于中外人士理解和接受;

4. 抽象符号与现实形象相结合。既有抽象的艺术形式表现,给人以丰富的想象空间;

5. 直观美感与实际应用相结合。直观上符合大众审美,方便应用,在各方面使用时自然协调、和谐相融;

6. 标识的设计作品要便于与其他标志组合使用,应易于学校网站、媒体报道,并方便制作各类衍生品。

() 标识设计稿应包含绘制形象和设计说明,并符合以下要求:

1. 编辑应保留设计原稿,以便入选后凭设计源文件取得奖励;

2. 应征作品附创作思路和说明说明;  

3. 表现形式简洁而有创意、色彩明快、寓意深刻、具有较强的视觉冲击力和艺术感染力,易于识记、制作、使用和传播。


五、报名方式及作品提交要求

应征者应同时提交实验室形象标识设计作品、形象标识征集活动报名表(以下简称《报名表》)和应征作品创编辑承诺书(以下简称《承诺书》)三份文件。


提交作品设计、填写完整的《报名表》及签名后扫描的《承诺书》(JPGPDF格式),通过电子邮件发送至softnanolab@shanghaitech.edu.cn


咨询电话:2068-5292

                    2068-5517

                    2068-4670



六、奖项与奖励:

一等奖1名:奖金1000元 +荣誉证书;


*以团体、机构名义应征的获奖者,由第一创编辑、机构法定代表人代领,奖金具体分配自行协商解决。


七、专家评审:

印杰

太阳集团娱乐

副校长

杨培东

太阳集团娱乐

2138acom太阳集团

创始会长

刘志

太阳集团娱乐

2138acom太阳集团

副会长

陈宇林

太阳集团娱乐

2138acom太阳集团  特聘教授

光子科学与凝聚态物理研究部主任

王宏达

太阳集团娱乐

2138acom太阳集团

软光学微纳加工实验室主任

八、征集单位有权对评审委员会推荐的终选应征作品作出是否采用的决定,并优先考虑由应征者修改作品,但保留对作品另行创作的权利。






九、形象标识参考

() UC-BerkeleyMarvell Nanofabrication Laboratory


() Kyoto UniversityInstitute for Integrated Cell-Material Sciences


() Harvard UniversityCenter for Nanoscale Systems




主办单位:软光学微纳加工实验室

* 本活动最终说明权归主办单位所有


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